相關(guān)
 1.液晶顯示器的結(jié)構(gòu)
一般地，TFT-LCD由上基板組件、下基板組件、液晶、驅(qū)動電路單元、背光燈模組和其他附件組成，其中：下基板組件主要包括下玻璃基板和TFT陣列，而上基板組件由上玻璃基板、偏振板及覆于上玻璃基板的膜結(jié)構(gòu)，液晶填充于上、下基板形成的空隙內(nèi)。
在下玻璃基板的內(nèi)側(cè)面上，布滿了一系列與顯示器像素點對應(yīng)的導(dǎo)電玻璃微板、TFT半導(dǎo)體開關(guān)器件以及連接半導(dǎo)體開關(guān)器件的縱橫線，它們均由光刻、刻蝕等微電子制造工藝形成，其中每一像素的TFT半導(dǎo)體器件的剖面結(jié)構(gòu)。
在上玻璃基板的內(nèi)側(cè)面上，敷有一層透明的導(dǎo)電玻璃板，一般為氧化銦錫（Indium Tin Oxide, 簡稱ITO）材料制成，它作為公共電極與下基板上的眾多導(dǎo)電微板形成一系列電場。若LCD為彩色，則在公共導(dǎo)電板與玻璃基板之間布滿了三基色（紅、綠、藍(lán)）濾光單元和黑點，其中黑點的作用是阻止光線從像素點之間的縫隙泄露，它由不透光材料制成，由于呈矩陣狀分布，故稱黑點矩陣（Black matrix）。
2 液晶顯示器的制造工藝流程
彩色TFT-LCD制造工藝流程主要包含4個子流程：TFT加工工藝（TFT process）、彩色濾光器加工工藝（Color filter process）、單元裝配工藝（Cell process）和模塊裝配工藝（Module process）。
 
2.1TFT加工工藝（TFT process）
TFT加工工藝的作用是在下玻璃基板上形成TFT和電極陣列。通常采用五掩膜工藝，即利用5塊掩膜，通過5道相同的圖形轉(zhuǎn)移工藝，完成如圖1.3TFT層狀結(jié)構(gòu)的加工。
                 
2.2濾光板加工工藝        
(a)玻璃基板           (b) 阻光器加工            (c) 濾光器加工           
(d) 濾光器加工          (e) 濾光器加工             (f) ITO淀積
3.1淀積工藝
應(yīng)用于液晶顯示器制造工藝的淀積（Deposition）方法主要有兩種：一種是離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相淀積法，另一種是濺射淀積法。離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相淀積的基本原理是：將玻璃基板至于真空腔室中，并且加熱至一定的溫度，隨后通入混合氣體，同時RF電壓施加于腔室電極上，混合氣體轉(zhuǎn)變?yōu)殡x子狀態(tài)，于是在基體上形成一種金屬或化合物的固態(tài)薄膜或鍍層。濺射淀積法的基板原理是：在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶，使其原子獲得足夠的能量而濺出進(jìn)入氣相，然后在工件表面淀積出與靶相同材料的薄膜。一般地，為不改變靶材的化學(xué)性質(zhì)，荷能粒子為氦離子和氬離子。濺射淀積法有直流濺射法、射頻濺射法等多種。
3.2光刻工藝
光刻工藝（Photolithography process）是將掩膜上的圖形轉(zhuǎn)移至玻璃基板上的過程。由于LCD板上的刻線品質(zhì)取決于光刻工藝，因此它是LCD加工過程中最重要的工藝之一。光刻工藝對環(huán)境中的粉塵顆粒很敏感，因此它必須置于高度潔凈的室內(nèi)完成。
3.3刻蝕工藝
刻蝕工藝分為濕法刻蝕工藝和干法刻蝕工藝，濕法刻蝕工藝用液體化學(xué)試劑以化學(xué)方式去除基板表面的材料，其優(yōu)點是用時短、成本低、操作簡單。干法刻蝕工藝是用等離子體進(jìn)行薄膜線條腐蝕的一種工藝，按照反應(yīng)機(jī)理可分為等離子刻蝕、反應(yīng)離子刻蝕、磁增強(qiáng)反應(yīng)離子刻蝕和高密度等離子刻蝕等類型，按結(jié)構(gòu)形式又可分為筒型、平行平板型。干法刻蝕工藝的優(yōu)點是橫向腐蝕小，控制精度高，大面積刻蝕均勻性好，利用ICP技術(shù)還可以刻蝕垂直度和光潔度都非常好的鏡面，因此，干法腐蝕在制作微米及深亞微米，納米級的幾何圖形加工方面,有很明顯的優(yōu)勢。
4 液晶顯示器制造工藝的發(fā)展趨勢
4.1TFT-LCD的發(fā)展趨勢
由于玻璃底板的大小對生產(chǎn)線所能加工的LCD最大尺寸，以及加工的難度起決定作用，所以LCD業(yè)界根據(jù)生產(chǎn)線所能加工的玻璃底板的最大尺寸來劃分生產(chǎn)線屬于哪一代，例如5代線最高階段的底板尺寸是1200X1300mm，最多能切割6片27英寸寬屏LCD-TV用基板；6代線底板尺寸為1500X1800mm，切割32英寸基板可以切割8片，37英寸可以切割6片。7代線的底板尺寸是1800X2100mm，切割42英寸基板可以切割8片，46英寸可以切割6片。圖4.1給出了1～7代的玻璃底板尺寸界定情況。目前，全球范圍已經(jīng)進(jìn)入第6代和第7代產(chǎn)品生產(chǎn)的階段，預(yù)計在未來兩年里，第5代及第5代之前的生產(chǎn)能力的增加幅度將逐漸減小，而第6代和第7代的生產(chǎn)能力在近兩年將形成加快增長的態(tài)勢。目前，各大設(shè)備廠商也紛紛推出了能夠與第6代以上生產(chǎn)線配套的設(shè)備，如尼康公司的面向第6代、第7代和第8代生產(chǎn)線應(yīng)用的步進(jìn)投影式平板顯示器光刻機(jī)FX-63S，F(xiàn)X-71S和FX-81S。
 
生產(chǎn)過程簡述
在液晶顯示器的生產(chǎn)過程中要多次涉及到清洗工藝，如所使用的玻璃基板在受入前必須清洗干凈，在濺鍍ITO導(dǎo)電膜之前還需要清洗干凈；除此之外，在涂敷光刻膠等之前都要對玻璃基板進(jìn)行清洗，將1微米以上的顆粒以及所有的無機(jī)、有機(jī)污染物清洗干凈，保證工藝達(dá)到所需要的精度要求。
清洗液過濾以去除清洗過程中引入的雜質(zhì)，達(dá)到清洗循環(huán)利用或排放標(biāo)準(zhǔn)；玻璃基板上的污染物，主要來自制造工藝過程以及玻璃基板的搬運、包裝、運輸、儲存過程，主要的污染物有塵埃粒子、纖維紙屑、礦物油和油脂等油垢、氧化硅等無機(jī)顆粒、制備加工過程的殘留物、水跡、手指印等。
主要清洗工藝
濕法
    刷洗
    高壓噴淋
    浸泡式超聲波清洗
    流水式高頻超聲波清洗
    藥液噴淋
    二流體清洗
    超高壓微細(xì)粒子噴射清洗技術(shù)
    功能水清洗技術(shù)  
干法
    紫外線照射清洗(UV清洗)
    等離子體清洗 
問題描述
    清洗液中的污染物對玻璃基板性能造成不良影響
    影響加工過程中玻璃基板表面與使用的各種材料之間的親和力
    傷害玻璃基板松軟膜層 
產(chǎn)品應(yīng)用
高純水、超純水、去離子水的終端過濾
    PES膜濾芯 
 
工藝用水處理，或作為高純水及多種模式過濾的前過濾
    PP膜濾芯 
相關(guān)資料：
CC-Link總線技術(shù)在液晶屏清洗系統(tǒng)中的應(yīng)用；
Fenton光催化氧化法處理液晶顯示屏清洗廢水；
液晶面板清洗水分質(zhì)處理及高標(biāo)準(zhǔn)回用；
相關(guān)產(chǎn)品：
精密濾芯過濾器
技術(shù)支持：
如何選擇過濾設(shè)備—工況調(diào)查表
常見流體的粘度；
常見顆粒物的大小及設(shè)備選型參考；
常見流體化學(xué)適應(yīng)性表；
選擇過濾精度時微米和目數(shù)的關(guān)系；
常見管道尺寸對照表；
如何挑選合適的過濾袋-過濾芯；
過濾機(jī)理和形式；
過濾行業(yè)中的常用術(shù)語；
過濾行業(yè)常見的單位換算；
過濾的種類及模式；
過濾行業(yè)中的一些名詞定義；
常見顆粒物粒徑大小；
常用壓濾機(jī)濾布分類；
過濾機(jī)理；
幾種過濾方法能耗分析；
幾種金屬顆粒和化合物粒徑分布；
顆粒尺寸和對應(yīng)的過濾分離方式;