半導(dǎo)體制造廢水
 
 半導(dǎo)體集成電路（英文名：semiconductor integrated circuit），是指在一個半導(dǎo)體襯底上至少有一個電路塊的半導(dǎo)體集成電路裝置。
半導(dǎo)體集成電路是將晶體管，二極管等等有源元件和電阻器，電容器等無源元件，按照一定的電路互聯(lián)，“集成”在一塊半導(dǎo)體單晶片上，從而完成特定的電路或者系統(tǒng)功能。
 
半導(dǎo)體集成電路是指在半導(dǎo)體基板上，利用氧化、蝕刻、擴散等方法，將眾多電子電路組成各式二極管、晶體管等電子組件作在一微小面積上，以完成某一特定邏輯功能（例如：AND、OR、NAND等）， 進而達成預(yù)先設(shè)定好的電路功能。半導(dǎo)體的生產(chǎn)工藝要求高，涵蓋光刻、精密切割和研磨等各種復(fù)雜工藝，生產(chǎn)半導(dǎo)體的過程會產(chǎn)生大量的廢水， 半導(dǎo)體廢水污染物種類多，成分復(fù)雜，通常包括多種重金屬廢水，有機廢水以及硅和氟廢水；同時半導(dǎo)體PCW系統(tǒng)的制程冷卻水須過濾處理以回用（見水處理應(yīng)用）。
清洗工藝及廢水來源

工藝	清潔源	容器	清潔效果
剝離光刻膠	氧等離子體	平板反應(yīng)器	刻蝕膠
去聚合物	硫酸:水=6:1	溶液槽	除去有機物
去自然氧化層	氟化氫:水<1:50	溶液槽	產(chǎn)生無氧表面
旋轉(zhuǎn)甩干	氮氣	甩干機	無任殘留物
RCA1#(堿性)	氫氧化銨:過氧化氫:水=1:1:1.5	溶液槽	除去表面顆粒
RCA2#(堿性)	氯化氫:過氧化氫:水=1：1：5	溶液槽	除去重金屬粒子
DI清洗	去離子水	溶液槽	除去清洗溶劑

 
問題描述
1.分產(chǎn)生廢水量大；
2.廢水成復(fù)雜，含有各種過渡性質(zhì)的金屬如硅、鍺等，同時含有較高含量的氟；
3.廢水中含有難以處理的較高濃度的 COD。
 
產(chǎn)品應(yīng)用
 
1.陶瓷膜過濾系統(tǒng)；
2.占地面積小，集中管理，智能控制；
3.產(chǎn)水質(zhì)量高，同時去除廢水中的磷酸鹽和COD；
4.耐化學(xué)酸堿性佳，壽命長，維護簡便；
5.簡化傳統(tǒng)工藝，無需添加藥劑。
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